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雙極型集成電路工藝是用來制造CMOS集成電路。
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在集成電路制造工藝步驟中,光刻與刻蝕能把掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上來。
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EDA是計算機(jī)輔助測試的英文簡稱。
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