填空題

列出熱氧化物在硅片制造的4種用途()、()、場氧化層和()。

答案: 摻雜阻擋;表面鈍化;金屬層間介質(zhì)
題目列表

你可能感興趣的試題

填空題

選擇性氧化常見的有()和(),其英語縮略語分別為LOCOS和()。

答案: 局部氧化;淺槽隔離;STI
微信掃碼免費搜題