填空題

在干法刻蝕中發(fā)生刻蝕反應(yīng)的三種方法是（）、（）和（）。

答案：化學(xué)作用；物理作用；化學(xué)作用與物理作用混合

你可能感興趣的試題

光刻包括兩種基本的工藝類型：負(fù)性光刻和（），兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同，前者是（），后者是（）。

答案：正性光刻；負(fù)性光刻膠；正性光刻膠

CMP是一種表面（）的技術(shù)，它通過硅片和一個(gè)拋光頭之間的相對運(yùn)動來平坦化硅片表面，在硅片和拋光頭之間有（），并同時(shí)施加（）。

答案：全局平坦化；磨料；壓力