判斷題

步進(jìn)光刻機(jī)的三個基本目標(biāo)是對準(zhǔn)聚焦、曝光和合格產(chǎn)量。

答案：錯誤

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最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是正性光刻膠。

答案：錯誤

沒有CMP，就不可能生產(chǎn)甚大規(guī)模集成電路芯片。

答案：錯誤