問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】光刻工藝的主要流程有哪幾步？什么是光刻工藝的分辨率？從物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

答案： 光刻的工藝流程共分7步：（1）涂膠，（2）前烘，（3）曝光，（4）顯影，（5）堅(jiān)膜（6）刻蝕，（7）去膠。分辨率是指線條...
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)要說(shuō)明IC制造的平坦化工藝的作用是什么？主要有哪些方式？并解釋各種方式的詳細(xì)內(nèi)容。
答案： 在多層布線立體結(jié)構(gòu)中，把成膜后的凸凹不平之處進(jìn)行拋光研磨，使其局部或全局平坦化。
A.關(guān)于ECMP（電化學(xué)機(jī)械...
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【簡(jiǎn)答題】說(shuō)明APCVDLPCVDPECVD各自的含義及特點(diǎn)。
答案： 含義：APCVD——常壓化學(xué)氣相沉積法；LPCVD——低壓化學(xué)氣相沉積法...
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