碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

摻雜后，退火的目的是（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)？（）

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。