光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

進行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

摻雜后退火時間一般在（）。

如下哪個選項不是半導(dǎo)體器件制備過程中的主要污染物？（）

光刻工藝的特點包括（）。

光刻工藝對準誤差包括（）。