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預淀積
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與擴散實在較低溫度下,采用恒定表面源擴散方式,在硅片表面擴散一層數(shù)量一定按余誤差函數(shù)形式分布的雜質,由于溫度較低,且時間...
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答案:
如果擴散之前在硅片表面先淀積一層雜質,在整個擴散過程中這層雜志作為擴散的雜質源,不再有新源補充,這種擴散方式稱為有限表面...
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