問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】何為化學(xué)氣相蒸鍍（CVD）？主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些？

答案：化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。
優(yōu)點(diǎn)：
（...

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【簡(jiǎn)答題】使用CVD法成長(zhǎng)鉆石薄膜，氫元素和碳元素的濃度有何重要性？

答案： CVD生長(zhǎng)鉆石膜的瓶頸乃在避免碳?xì)浠镄纬墒?，因此氫原子?yīng)比碳源多很多。碳源濃度決定了鉆石膜的生長(zhǎng)速率，但碳源太高時(shí)氫...

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答案：為使CVD的鉆石生長(zhǎng)順利，碳源常用已具鉆石結(jié)構(gòu)的甲烷。甲烷可視為以氫壓出的單原子鉆石。所以故煮飯時(shí)的煤氣含大量懸浮的單原...