單項(xiàng)選擇題

下圖屬于什么光刻機(jī)？（）

A.接觸式光刻機(jī)
B.步進(jìn)掃描光刻機(jī)
C.分布重復(fù)光刻機(jī)
D.接近式光刻機(jī)

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單項(xiàng)選擇題

對(duì)于0.25um及以下的隔離技術(shù)采用以下（）方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結(jié)隔離
C.PN結(jié)-介質(zhì)隔離
D.淺槽隔離

單項(xiàng)選擇題

WCVD工藝第一步是（）。

A.浸潤(rùn)
B.成核
C.BULK
D.直接反應(yīng)