A.質(zhì)量較大的原子形成的半導(dǎo)體產(chǎn)生的空穴
B.價帶頂附近曲率較大的等能面上的空穴
C.價帶頂附近曲率較小的等能面上的空穴
D.自旋—軌道耦合分裂出來的能帶上的空穴
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A.復(fù)合機(jī)構(gòu)
B.能帶結(jié)構(gòu)
C.晶體結(jié)構(gòu)
D.散射機(jī)構(gòu)
A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓
A.處于絕對零度
B.不含任何雜質(zhì)
C.不含任何缺陷
D.不含施主
A.點(diǎn)陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點(diǎn)缺陷
C.點(diǎn)陣中的點(diǎn)陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯
A.電子在晶體中各處出現(xiàn)的幾率相同
B.電子在晶體原胞中各點(diǎn)出現(xiàn)的幾率相同
C.電子在晶體各原胞對應(yīng)點(diǎn)出現(xiàn)的幾率相同
D.電子在晶體各原胞對應(yīng)點(diǎn)的相位相同
最新試題
實際的MOS管,絕緣層相當(dāng)于一個電阻無限大的絕緣體,其中沒有任何雜質(zhì)和缺陷。
MOS的輸出特性曲線中,給定的漏源電壓下漏源電流隨著柵極電壓的增大而增加。
半導(dǎo)體襯底材料與柵極材料之間的逸出功差變化范圍較小。
處于飽和工作區(qū)的n溝耗盡型MOS管,漏極將失去對溝道電流的控制能力。
N溝增強(qiáng)型MOS管襯底材料是N型摻雜半導(dǎo)體。
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管,柵極將失去對漏源電流的控制作用。
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
氧化鋁(Al2O3)的介電常數(shù)一般低于氮化硅(Si3N4)的介電常數(shù)。
MOS管可以分為4類型,其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。