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問答題

【簡答題】二氧化硅，鋁，硅和光刻膠刻蝕分別使用什么化學氣體來實現(xiàn)干法刻蝕？

答案：刻蝕硅采用的化學氣體為CF₄/O₂和CL₂.刻蝕二氧化...

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【簡答題】列出在干法刻蝕中發(fā)生刻蝕反應的六種方法？

答案： 1.對不需要刻蝕的材料的高選擇比
2.獲得可接受的產能的刻蝕速率
3.好的側壁剖面控制
4...

【簡答題】列舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點，干法刻蝕的不足之處是什么？

答案：優(yōu)點：
1.刻蝕剖面是各向異性，具有非常好的側壁剖面控制
2.好的CD控制。
3.最小的光...

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