化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查，是否有出現廢品？（）

新的平坦化方法有哪幾個？（）

三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。

互連工藝中AL的制備可選用（）。

光刻工藝對準誤差包括（）。

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數無關？（）

CMP的設備構成包括（）。

當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。