1）質(zhì)量傳輸 2）薄膜先驅(qū)物反應 3）氣體分子擴散 4）先驅(qū)物吸附 5）先驅(qū)物擴散進襯底 6）表面反應 7）副產(chǎn)物解吸 8）副產(chǎn)物去除
最新試題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
描述電子回旋共振（ECR）。
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
什么是結(jié)深？
哪種化學氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？
