什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

描述電子回旋共振（ECR）。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。