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問答題
【簡答題】描述RCA清洗工藝。
答案：
工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)濕法清洗工藝稱為RCA清洗工藝，由美國無線電公司（RCA）于20世紀(jì)60年代提出。RCA濕法清洗由一系列有序的浸...
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問答題
【簡答題】解釋水的去離子化。在什么電阻率級(jí)別下水被認(rèn)為已經(jīng)去離子化？
答案：
用以制造去離子水的去離子化過程是指，用特制的離子交換樹脂去除電活性鹽類的離子。18MΩ-cm電阻率級(jí)別下水被認(rèn)為已經(jīng)去離...
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【簡答題】描述凈化間的舞廳式布局。
答案：
凈化間的舞廳式布局為大的制造間具有10000級(jí)的級(jí)別，層流工作臺(tái)則提供一個(gè)100級(jí)的生產(chǎn)環(huán)境。
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【簡答題】解釋空氣質(zhì)量凈化級(jí)別。
答案：
凈化級(jí)別標(biāo)定了凈化間的空氣質(zhì)量級(jí)別，它是由凈化室空氣中的顆粒尺寸和密度表征的。這一數(shù)字描繪了要怎樣控制顆粒以減少顆粒玷污...
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【簡答題】例舉硅片制造廠房中的7種玷污源。
答案：
硅片制造廠房中的七中沾污源：
（1）空氣：凈化級(jí)別標(biāo)定了凈化間的空氣質(zhì)量級(jí)別，它是由凈化室空氣中的顆粒尺寸和密...
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【簡答題】什么是硅片的自然氧化層？由自然氧化層引起的三種問題是什么？
答案：
自然氧化層：如果曝露于室溫下的空氣或含溶解氧的去離子水中，硅片的表面將被氧化。這一薄氧化層稱為自然氧化層。硅片上最初的自...
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【簡答題】對(duì)凈化間做一般性描述。
答案：
凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離，免受諸如顆粒、金屬、有機(jī)分子和靜電釋放（ESD）的玷污。一般來講，那意味著這些玷污在...
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【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
答案：
氧氣（O
2
）、氬氣（Ar）、氮?dú)猓∟
2
）、氫氣（H
2
）和氦氣（He）。
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【簡答題】描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
答案：
去離子水：在半導(dǎo)體制造過程中廣泛使用的溶劑，在它里面沒有任何導(dǎo)電的離子。DI Water的PH值為7，既不是酸也不是堿，...
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【簡答題】砷化鎵相對(duì)于硅的優(yōu)點(diǎn)是什么？
答案：
砷化鎵具有比硅更高的電子遷移率，因此多數(shù)載流子也移動(dòng)得比硅中的更快。砷化鎵也有減小寄生電容和信號(hào)損耗的特性。這些特性使得...
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【簡答題】最通常的半導(dǎo)體材料是什么？該材料使用最普遍的原因是什么？
答案：
最通常的半導(dǎo)體材料是硅。
原因：
1.硅的豐裕度；
2.更高的融化溫度允許更高的工藝容限；...
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