由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容，這種電容稱為（）。

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。

BiCMOS技術(shù)就是將（）和（）的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動能力。

利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個MOS管，已知Cox＝5×10-4pF/μm2，估算柵極電容。

說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。

試用電導(dǎo)率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長。

集成電路電阻可以通過（）產(chǎn)生。

20世紀(jì)上半葉對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

從設(shè)計的觀點(diǎn)出發(fā)，版圖設(shè)計規(guī)則應(yīng)包括哪些部分？