例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

描述電子回旋共振（ECR）。