真空鍍膜操作員章節(jié)練習(2020.04.11)

來源：考試資料網(wǎng)

1 用普通加熱工藝鍍膜時，烘烤的恒溫時間最少要求是多少？（）

2 正?？缮敌拚宓腻兡C，若EB2正在鍍膜，EB1，EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（）

3.問答題CVD制程具有哪些優(yōu)缺點？

參考答案：優(yōu)點：
（1）真空度要求不高，甚至不須真空，如熱噴覆。
（2）高沉積速率，APCVD可以達到1&mu...

4 在蒸鍍膜料時，電子槍電流有，但加不高的原因是（）。

5.判斷題鍍膜機冷卻水的水溫越低越好.

6.判斷題坩堝擋板裝偏了會導致漏料問題。

7.問答題在使用擴散泵應注意哪些事項？

參考答案：1、冷卻水不足，必須關閉擴散泵，否則輕則會造成返油，重則會使擴散泵過熱造成擴散泵油燒焦。（機器若有自動保護裝置，會自動停...

8.填空題石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個效應，即（）和（）。

參考答案：壓電效應；質(zhì)量負荷效應

9 對于AR膜而言，下列哪個波段反射率偏高時，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（）

10 鍍膜機中EB代表的含義（）。