圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個(gè)NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線，請(qǐng)畫出Id2的大致變化，并說明Id1和Id2有什么不同，并解釋不同的主要原因。

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。

從設(shè)計(jì)的觀點(diǎn)出發(fā)，版圖設(shè)計(jì)規(guī)則應(yīng)包括哪些部分？

版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？

什么是電阻率？它的單位是什么（國際標(biāo)準(zhǔn)單位制）？

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？

說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。

什么是MOS器件的體效應(yīng)？