離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

解釋離子束擴展和空間電荷中和。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質并說明它們是n型還是p型？

光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。