問答題什么是固相外延(SPE)及固相外延中存在的問題?
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例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別?為什么正膠是普遍使用的光刻膠?最常用的正膠是指哪些膠?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型:?jiǎn)柎痤}
例出光刻的8個(gè)步驟,并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
題型:?jiǎn)柎痤}
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅?描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。
題型:?jiǎn)柎痤}