干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴散的三個步驟。

光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？