問(wèn)答題簡(jiǎn)述外延薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程,其最顯著的特征是什么?
您可能感興趣的試卷
最新試題
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:?jiǎn)柎痤}
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是硅化物?難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問(wèn)題?
題型:?jiǎn)柎痤}
刻蝕工藝有哪兩種類(lèi)型?簡(jiǎn)單描述各類(lèi)刻蝕工藝。
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是摻雜?例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說(shuō)明它們是n型還是p型?
題型:?jiǎn)柎痤}