下圖是硅烷反應(yīng)淀積多晶硅的過程，寫出發(fā)生反應(yīng)的方程式，并簡述其中1～5各步的含義。
最新試題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
什么是結(jié)深？
