問答題

【簡答題】解釋基本概念：集成電路、集成度、特征尺寸。

答案： A.集成電路（IC：integrated circuit）是指通過一系列特定的加工工藝，將晶體管、二極管等有源器件和電阻...

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【簡答題】簡述側(cè)墻工藝目的。

答案：側(cè)墻用來環(huán)繞多晶硅柵側(cè)壁阻擋大劑量的S/D注入以免其接近溝道導(dǎo)致源漏穿通。

【簡答題】簡述輕摻雜漏（LDD）工藝目的。

答案：減小源漏間的穿通和溝道漏電，提高源漏擊穿電壓。