【簡答題】簡述光刻工藝步驟。

答案：涂光刻膠，曝光，顯影，腐蝕，去光刻膠。

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問答題
【簡答題】光刻的作用是什么？列舉兩種常用曝光方式。
答案：光刻是集成電路加工過程中的重要工序，作用是把掩模版上的圖形轉換成晶圓上的器件結構。
曝光方式：接觸式和非接觸式。
問答題
【簡答題】比較整版掩模和單片掩模的區(qū)別，并列舉三種掩模的制造方法。
答案：