描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

描述電子回旋共振（ECR）。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？