你可能感興趣的試題

問答題
【簡答題】解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
答案：掃描投影光刻機的概念是利用反射鏡系統(tǒng)把有1：1圖像的整個掩膜圖形投影到硅片表面，其原理是，紫外光線通過一個狹縫聚焦在硅片...
問答題
【簡答題】光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？
答案：分辨率和焦深。
問答題
【簡答題】例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
答案：汞燈，高壓汞燈，電流通過裝有氙汞氣體的管子產(chǎn)生電弧放電，這個電弧發(fā)射出一個特征光譜，包括240納米到500納米之間有用的...
問答題
【簡答題】描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
答案：減少曝光光源的波長對提高分辨率非常重要，波長的越小，圖像的分辨率就越高，圖像就越精確。
問答題
【簡答題】例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
答案：1.分滴，當硅片靜止或者旋轉(zhuǎn)得非常緩慢時，光刻膠被分滴在硅片上
2.旋轉(zhuǎn)鋪開，快速加速硅片的旋轉(zhuǎn)到一高的轉(zhuǎn)速使...
問答題
【簡答題】在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
答案：
一、將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中
二、在后續(xù)工藝中，保護下面的材料
問答題
【簡答題】例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。
答案：第一步：氣相成底膜處理，其目的是增強硅片和光刻膠之間的粘附性。
第二步：旋轉(zhuǎn)涂膠，將硅片被固定在載片臺上，一定數(shù)...
問答題
【簡答題】解釋什么是暗場掩模板？
答案：暗場掩膜版是指一個掩膜版，它的石英版上大部分被鉻覆蓋，并且不透光。
問答題
【簡答題】解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
答案：正性光刻把與掩膜版上相同的圖形復制到硅片上，負性光刻把與掩膜版上圖形相反的圖形復制到硅片表面，這兩種基本工藝的主要區(qū)別在...
問答題
【簡答題】描述化學機械平坦化工藝。
答案：CMP：通過比去除低處圖形更快的速率去除高處圖形以獲得均勻表面，是一種化學和機械作用結(jié)合的平坦化過程。它通過硅片和一個跑...

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【簡答題】光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

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【簡答題】光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

【簡答題】例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

【簡答題】描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

【簡答題】例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

【簡答題】在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

【簡答題】例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

【簡答題】解釋什么是暗場掩模板？

【簡答題】解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

【簡答題】描述化學機械平坦化工藝。

【簡答題】光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

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【簡答題】例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

【簡答題】描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

【簡答題】例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

【簡答題】在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

【簡答題】例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

【簡答題】解釋什么是暗場掩模板？

【簡答題】解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

【簡答題】描述化學機械平坦化工藝。

【簡答題】光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

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【簡答題】解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

【簡答題】描述化學機械平坦化工藝。