版圖設(shè)計的基本前提是什么？

目前集成電路版圖設(shè)計的主流工具有哪些？

什么是MOS器件的體效應(yīng)？

試述兩種傳輸線電感，比較其優(yōu)缺點(diǎn)。

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

集成電路電阻可以通過（）產(chǎn)生。

在晶體材料中，對于長程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是（）。

圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線，請畫出Id2的大致變化，并說明Id1和Id2有什么不同，并解釋不同的主要原因。

硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產(chǎn)生的（）材料等。

為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力，可在版圖設(shè)計上采取哪些措施？