單項選擇題CVD中起到冷卻作用的設備是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber


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1.單項選擇題下列哪一項不是屬于控制Dry Etch刻蝕工藝條件的元件()

A.EPD(末端探測儀)
B.MFC(質量流量控制器)
C.Orifice(過壓閥)
D.APC(自動壓力控制器)

2.單項選擇題相比Wet Etch,下列哪一項不是Dry Etch的優(yōu)點()

A.刻蝕精度高
B.刻蝕速度高
C.運營成本低
D.更環(huán)保

3.單項選擇題CVD設備中內(nèi)部有Robot的設備是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber

4.單項選擇題CVD中主要進行鍍膜的設備是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber