單項選擇題CVD中起到冷卻作用的設備是()
A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber
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1.單項選擇題下列哪一項不是屬于控制Dry Etch刻蝕工藝條件的元件()
A.EPD(末端探測儀)
B.MFC(質量流量控制器)
C.Orifice(過壓閥)
D.APC(自動壓力控制器)
2.單項選擇題相比Wet Etch,下列哪一項不是Dry Etch的優(yōu)點()
A.刻蝕精度高
B.刻蝕速度高
C.運營成本低
D.更環(huán)保
3.單項選擇題CVD設備中內(nèi)部有Robot的設備是()
A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber
4.單項選擇題CVD中主要進行鍍膜的設備是()
A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber
5.單項選擇題CVD中為了保持非晶硅特性,需要添加的元素是()
A.N
B.H
C.Si
D.O
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題型:單項選擇題