單項選擇題在ODF工程中，按照先后順序，CF的主要工藝大致為（）

A.清洗→Seal Sealnt涂布→壓合→UV硬化→OVEN固化→配向檢查
B.清洗→壓合→Seal Sealnt涂布→UV硬化→OVEN固化→配向檢查
C.清洗→Short Sealant涂布→液晶滴下→壓合→UV硬化→OVEN固化→配向檢查
D.清洗→壓合→Short Sealant涂布→液晶滴下→UV硬化→OVEN固化→配向檢查


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1.單項選擇題LC工程中，把兩個Glass壓合的工程是（）

A.INKJET
B.LC
C.SEAL
D.VAS

2.單項選擇題下列哪一項不屬于Dry Etch工程中控制Process Chamber壓力大小的部件（）

A.泵（Pump）
B.壓力計（Pressure Gauge）
C.過壓閥（Orifice）
D.壓力自動控制器（APC）

3.單項選擇題哪一項不屬于控制Dry Etch工程的工藝條件（）

A.能量（Power）
B.氣體（Gas）
C.壓力（Pressure）
D.磁場（Magnet）

4.單項選擇題下列哪一項不屬于Dry Etch設(shè)備的主要Unit（）

A.Process Chamber（反應(yīng)腔）
B.Loadlock Module（加載腔）
C.Heating Chamber（加熱腔）
D.Transfer Module（中轉(zhuǎn)腔）

5.單項選擇題在Dry Etch工程中，Active Etch工藝不會被刻蝕到的Film是（）

A.G-SiNx
B.P-SiNx
C.N+a-SiNx
D.a-Si