單項選擇題下列哪一項不屬于Dry Etch設(shè)備的主要Unit（）

A.Process Chamber（反應(yīng)腔）
B.Loadlock Module（加載腔）
C.Heating Chamber（加熱腔）
D.Transfer Module（中轉(zhuǎn)腔）


您可能感興趣的試卷

你可能感興趣的試題

1.單項選擇題在Dry Etch工程中，Active Etch工藝不會被刻蝕到的Film是（）

A.G-SiNx
B.P-SiNx
C.N+a-SiNx
D.a-Si

2.單項選擇題CVD中干泵進(jìn)行Purge和Sealing的氣體是（）

A.N2
B.CO
C.H2
D.CO2

3.單項選擇題CVD設(shè)備中可以檢測到Glass是否Broken的裝置是（）

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber

4.單項選擇題CVD中起到冷卻作用的設(shè)備是（）

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber

5.單項選擇題下列哪一項不是屬于控制Dry Etch刻蝕工藝條件的元件（）

A.EPD（末端探測儀）
B.MFC（質(zhì)量流量控制器）
C.Orifice（過壓閥）
D.APC（自動壓力控制器）