單項(xiàng)選擇題CVD中干泵進(jìn)行Purge和Sealing的氣體是()

A.N2
B.CO
C.H2
D.CO2


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1.單項(xiàng)選擇題CVD設(shè)備中可以檢測到Glass是否Broken的裝置是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber

2.單項(xiàng)選擇題CVD中起到冷卻作用的設(shè)備是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber

3.單項(xiàng)選擇題下列哪一項(xiàng)不是屬于控制Dry Etch刻蝕工藝條件的元件()

A.EPD(末端探測儀)
B.MFC(質(zhì)量流量控制器)
C.Orifice(過壓閥)
D.APC(自動壓力控制器)

4.單項(xiàng)選擇題相比Wet Etch,下列哪一項(xiàng)不是Dry Etch的優(yōu)點(diǎn)()

A.刻蝕精度高
B.刻蝕速度高
C.運(yùn)營成本低
D.更環(huán)保

5.單項(xiàng)選擇題CVD設(shè)備中內(nèi)部有Robot的設(shè)備是()

A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber