A.能很快地滲入細(xì)微的開口中去
B.揮發(fā)快
C.能保留在比較大的開口中
D.探傷后容易從零件表面上去除掉
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.為了制定一個(gè)裂紋的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，這種裂紋可以根據(jù)需要復(fù)制
B.為了確定兩種不同滲透劑的相對(duì)靈敏度
C.為了確定滲透劑是否由于污染而失去或降低了熒光亮度
D.為了確定從零件表面上去除滲透劑而不將裂紋中的滲透劑去除掉所需要的清洗程度或洗滌方法
A.蒸氣除油
B.堿性清洗劑清洗
C.溶劑清洗
D.熱水清洗
A.過分的清洗
B.顯像劑施加不當(dāng)
C.滲透探傷時(shí)，工件或滲透劑太冷
D.工件表面沾有棉絨或污垢
A.熒光滲透劑可在白色背景上產(chǎn)生紅色的不連續(xù)性顯示
B.非熒光滲透劑需要使用黑光燈
C.熒光顯示在黑光照射下可以看見
D.為了便于觀察和解釋，應(yīng)使熒光顯示在暗處發(fā)光
A.降低顯示對(duì)比度
B.反映是否過清洗
C.多孔性試件背景很難去除
D.反映是否過乳化
最新試題
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸，且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
對(duì)于圓柱體而言，外圓徑向檢測(cè)實(shí)心圓柱體時(shí)，入射點(diǎn)處的回波聲壓理論上同平底面工件相同。
衍射時(shí)差法對(duì)缺陷檢出率高，超聲波束覆蓋區(qū)域大，缺陷高度測(cè)量精確，實(shí)時(shí)成像，快速分析。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
電磁超聲探頭在工件的表層內(nèi)產(chǎn)生的渦流，在外加磁場(chǎng)的作用下，在工件中形成超聲波波源。
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié)，當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí)，儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化，影響缺陷定位精度。
根據(jù)球形反射體返回晶片聲壓的計(jì)算公式與圓柱形平面反射體的表達(dá)式進(jìn)行比較可知，在反射體直徑相同的情況下，圓形反射體的反射聲壓比球形反射體的反射壓小。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
檢測(cè)曲面工件時(shí)，探頭與工件接觸有兩種情況，一是平面與曲面接觸，另一種是將探頭斜楔磨成曲面，探頭與工件曲面接觸。
非金屬夾雜等缺陷的聲阻抗與鋼的聲阻抗相差很小，聲波在缺陷上的透射和吸收明顯高于白點(diǎn)和氣孔等缺陷。