A.熒屏成像靈敏度更高
B.熒屏成像是正像,而射線底片影像是負(fù)像
C.熒屏成像亮度大
D.兩者無基本的區(qū)別
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A.射源—膠片距離
B.Ma
C.KV
D.焦點(diǎn)尺寸
E.以上全是
A.當(dāng)要控制最大允許劑量時(shí),必須考慮其累計(jì)效應(yīng)
B.是有益的,因?yàn)榭墒谷梭w對(duì)射線產(chǎn)生免疫力
C.對(duì)人體無影響
D.對(duì)人體細(xì)胞只有短期效應(yīng)
A.身體無反應(yīng)
B.血象改變,但無嚴(yán)重傷害
C.有傷害,可能致殘
D.該接收劑量的50%就是致命的
A.試件厚度
B.試件密度
C.材料原子序數(shù)
D.材料楊氏模量
E.材料體積
A.射源至膠片距離增大時(shí),射線強(qiáng)度按指數(shù)衰減律減小
B.射線能量與射源至膠片距離的平方根成反比
C.射線強(qiáng)度與射源至膠片距離的平方成反比
D.射源至膠片距離增大時(shí),散射線效應(yīng)與增大
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最新試題
X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無遺留問題方可進(jìn)行試壓。
一次完整的兩面多層補(bǔ)焊,當(dāng)正面打底層質(zhì)量進(jìn)行過一次X射線檢測,若反面還需打底,則無需X射線檢測。
為了提高射線照相對(duì)比度,可以采用高電壓、短時(shí)間、大管電流的方式曝光。
在射線照相檢驗(yàn)中,隨著射線能量的提高,得到的圖像不清晰度也將增大。
檢測申請(qǐng)時(shí)工序狀態(tài)應(yīng)清楚、工序質(zhì)量應(yīng)符合工序質(zhì)量要求,檢驗(yàn)蓋章確認(rèn),確保焊接、檢驗(yàn)、檢測等全過程具有可追溯性。
超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測。
對(duì)焊接接頭穩(wěn)定時(shí)間有規(guī)定的產(chǎn)品,工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定,檢驗(yàn)監(jiān)控確認(rèn),檢驗(yàn)蓋章時(shí)穩(wěn)定時(shí)間不足者應(yīng)在申請(qǐng)單注明穩(wěn)定時(shí)間節(jié)點(diǎn),否則X光室視為穩(wěn)定時(shí)間符合要求。
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。
對(duì)于直徑Φ50mm導(dǎo)管環(huán)焊縫,采用的透照方式為()。
缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求,標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷,必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考,但不作為合格與否判定的依據(jù)。