問(wèn)答題

答案：因?yàn)榇蟛糠肿⑷氲碾x子并不是以替位形式處在晶格點(diǎn)陣位置上，而是處于間隙位置，無(wú)電活性，一般不能提供導(dǎo)電性能，所以離子注入后...

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答案：

作用是激活注入的離子，恢復(fù)遷移率及其他材料參數(shù)。

答案：

離子注入損傷，是指獲得很大動(dòng)能的離子直接進(jìn)入半導(dǎo)體中造成的一些晶格缺陷。