退火處理能使金絲和硅鋁絲的抗斷強度下降。（）

可靠性篩選可以剔除早期失效的產(chǎn)品。（）

在半導體集成電路中，各元器件都是制作在同一晶片內(nèi)。因此要使它們起著預定的作用而不互相影響，就必須使它們在電性能上相互絕緣。（）

光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。（）

片狀源擴散具有設備簡單，操作方便，晶片缺陷少，均勻性、重復性和表面質量都較好，適于批量生產(chǎn)，應用越來越普遍。（）

位錯就是由范性形變造成的，它可以使晶體內(nèi)的一原子或離子脫離規(guī)則的周期排列而位移一段距離，位移區(qū)與非位移區(qū)交界處必有原子的錯位，這樣產(chǎn)生線缺陷稱為位錯。（）

集成電容主要有哪幾種結構？

厚膜漿料存在觸變性，流體受到外力作用時黏度迅速下降，外力消失后，黏度迅速恢復原狀。（）

金屬剝離工藝是以具有一定圖形的光致抗蝕劑膜為掩膜，帶膠蒸發(fā)或濺射所需的金屬，然后在去除光致抗蝕劑膜的同時，把膠膜上的金屬一起去除干凈。（）

雙極晶體管中只有一種載流子（電子或空穴）傳輸電流。（）