A. 釉層過厚
B. 燒成溫度過低
C. 原料中含有雜質(zhì)
D. 坯、釉膨脹系數(shù)搭配不合理
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A.低溫素?zé)?、高溫釉?br />
B.高溫素?zé)?、低溫釉?br />
C.一次燒成
D.三次燒成
A.燒成時止火溫度高于產(chǎn)品的燒成溫度
B.在過于干燥的生坯上施釉
C.坯釉膨脹系數(shù)搭配不合理
D.釉層厚度不均
A.鏈狀
B.層狀
C.架狀
A.二次燒成
B.重?zé)?br />
C.一次燒成
D.三次燒成
A.K2O
B.Na2O
C.Li2O
最新試題
雙膜理論中在膜層以外的氣、液兩相主體中,由于流體充分湍動,吸收質(zhì)濃度是不均勻的。
吸附質(zhì)從流體主體通過分子與對流擴(kuò)散穿過薄膜或邊界層傳遞到吸附劑的外表面,稱之為外擴(kuò)散過程。
低壓下從石墨轉(zhuǎn)變成金剛石是一個典型的反自發(fā)方向進(jìn)行的反應(yīng),它依靠自發(fā)的氫原子耦合反應(yīng)的推動來實(shí)現(xiàn)。
化學(xué)合成反應(yīng)沉積是由兩種或兩種以上的反應(yīng)原料氣在沉積反應(yīng)器中相互作用合成得到所需要的無機(jī)薄膜或其它材料形式的方法。
簡述玻璃真空系統(tǒng)漏氣的原因及防漏措施。
高壓合成,就是利用外加的高壓力,使物質(zhì)產(chǎn)生多型相變或發(fā)生不同物質(zhì)間的化合,而得到新相、新化合物或新材料。
在CVD 技術(shù)中反應(yīng)劑在室溫或不太高的溫度下最好是氣態(tài)或有較高的蒸氣壓而易于揮發(fā)成蒸汽的液態(tài)或固態(tài)物質(zhì),且有很高的純度。
CVD 工藝是在較低壓力和較底溫度下進(jìn)行的,不僅用來增密炭基材料,還可增強(qiáng)材料斷裂強(qiáng)度和抗震性能。
強(qiáng)制對流是自流體因溫度或濃度所產(chǎn)生的密度差所導(dǎo)致的。
吸附平衡關(guān)系由吸附過程的方向和極限決定的,是吸附過程的基本依據(jù)。