最新試題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？
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定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深？
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光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
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