刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

什么是結(jié)深？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

描述RF濺射系統(tǒng)。

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。