例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質并說明它們是n型還是p型？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。