最新試題
描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
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離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
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光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？
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例出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
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什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
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例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
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描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。
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解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
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解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
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