單項(xiàng)選擇題PHOTO工程曝光機(jī)設(shè)備構(gòu)造中，不包含的是（）

A.照明光學(xué)系
B.投影光學(xué)系
C.MASK STAGE
D.除震系統(tǒng)


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1.單項(xiàng)選擇題在Gate Step中，得到Gate Pattern的順序是（）

A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch
B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch
C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch
D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch

2.單項(xiàng)選擇題PHOTO設(shè)備中VCD的作用是（）

A.涂布光刻膠
B.清洗glass基板
C.加熱干燥，去除光刻膠里面的solvent
D.真空干燥，去除光刻膠里面的solvent

3.單項(xiàng)選擇題PHOTO工程最主要的三個(gè)Process是（）

A.Clean，Coating，Develop
B.Depo，PHOTO，WET Etch
C.Coating，Exposure，Develop
D.Exposure，Develop，IR Oven

4.單項(xiàng)選擇題下面哪一個(gè)不屬于PHOTO Cleaner的構(gòu)成（）

A.In Conveyer
B.E-UV
C.AA-JET
D.AIR Knife

5.單項(xiàng)選擇題下列不屬于PHOTO工程的設(shè)備是（）

A.Micro Scope
B.Cleaner
C.SBK
D.Develop