A.每年至少校驗(yàn)一次
B.射線設(shè)備更換重要部件應(yīng)及時(shí)校驗(yàn)或重新制作
C.線設(shè)備經(jīng)大修后應(yīng)及時(shí)校驗(yàn)或重新制作
D.制作完成就可以不需校驗(yàn)
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A.能很快地滲入細(xì)微的開口中去
B.揮發(fā)快
C.能保留在比較大的開口中
D.探傷后容易從零件表面上去除掉
A.為了制定一個(gè)裂紋的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，這種裂紋可以根據(jù)需要復(fù)制
B.為了確定兩種不同滲透劑的相對(duì)靈敏度
C.為了確定滲透劑是否由于污染而失去或降低了熒光亮度
D.為了確定從零件表面上去除滲透劑而不將裂紋中的滲透劑去除掉所需要的清洗程度或洗滌方法
A.蒸氣除油
B.堿性清洗劑清洗
C.溶劑清洗
D.熱水清洗
A.過分的清洗
B.顯像劑施加不當(dāng)
C.滲透探傷時(shí)，工件或滲透劑太冷
D.工件表面沾有棉絨或污垢
A.熒光滲透劑可在白色背景上產(chǎn)生紅色的不連續(xù)性顯示
B.非熒光滲透劑需要使用黑光燈
C.熒光顯示在黑光照射下可以看見
D.為了便于觀察和解釋，應(yīng)使熒光顯示在暗處發(fā)光
最新試題
對(duì)于圓柱體而言，外圓徑向檢測(cè)實(shí)心圓柱體時(shí)，入射點(diǎn)處的回波聲壓理論上同平底面工件相同。
無論聲波相對(duì)于缺陷是垂直入射還是斜入射，缺陷大小不同其反射波的指向性有相當(dāng)大的差異。
電磁超聲探頭在工件的表層內(nèi)產(chǎn)生的渦流，在外加磁場(chǎng)的作用下，在工件中形成超聲波波源。
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸，且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
超聲波檢測(cè)中如果被檢工件衰減嚴(yán)重，定量會(huì)受到影響。
衍射時(shí)差法對(duì)缺陷檢出率高，超聲波束覆蓋區(qū)域大，缺陷高度測(cè)量精確，實(shí)時(shí)成像，快速分析。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
爬波在自由表面的位移有垂直分量，但不是純粹的表面波。
對(duì)于圓柱體而言，外圓徑向檢測(cè)實(shí)心圓柱體時(shí)，入射點(diǎn)處的回波聲壓實(shí)際上由于圓柱面耦合不及平面，因而其回波高于平底面，會(huì)使定量誤差增加。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。