根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。

由硅片生產(chǎn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品，又被稱為（）。

圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個(gè)NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線，請(qǐng)畫出Id2的大致變化，并說明Id1和Id2有什么不同，并解釋不同的主要原因。

版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？

MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響？

什么是電阻率？它的單位是什么（國際標(biāo)準(zhǔn)單位制）？

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

BiCMOS技術(shù)就是將（）和（）的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動(dòng)能力。

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？