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A、刻痕
B、肉眼看到的刻痕
C、大于1mm的刻痕
D、環(huán)形刻痕

A、鑄鐵
B、石墨
C、45號鋼
D、20號鋼

A、活動摩擦環(huán)外圓面上
B、活動摩擦環(huán)端面上
C、活動摩擦環(huán)密封線上
D、活動摩擦環(huán)內(nèi)圓凸臺上

A、端面緊密接觸
B、油槽保持間隙
C、內(nèi)圓緊密接觸
D、外圓緊密接觸

A、彈簧
B、彈簧座
C、波紋管
D、固定環(huán)

A、摩擦環(huán)
B、波紋管
C、固定環(huán)
D、填料

A、制冷劑鋼瓶內(nèi)的鹵代烴
B、制冷系統(tǒng)內(nèi)的鹵代烴
C、載冷劑系統(tǒng)內(nèi)內(nèi)的鹵代烴
D、間接冷卻系統(tǒng)內(nèi)內(nèi)的鹵代烴

A、氫氧化鋰
B、氫氧化鉻
C、溴化鋰
D、溴化鉻

A、溴化鋰水溶液
B、氯化鈉水溶液
C、氯化鈣水溶液
D、乙二醇水溶液

A、蒸發(fā)溫度低5～10℃
B、蒸發(fā)溫度高5～10℃
C、共晶溫度低5～10℃
D、共晶溫度高5～10℃