單項選擇題下面哪個圖是增強型NMOS轉(zhuǎn)移特性曲線?()
A.
B.
C.
D.
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1.單項選擇題摩爾定律將遇到前所未有的挑戰(zhàn),挑戰(zhàn)不包含哪個?()
A.功耗密度持續(xù)提高、散熱無法解決
B.計算密度增加、工作功耗密度和漏電功耗密度大幅度增長
C.互連延時降低,互連能耗減小
D.工藝復(fù)雜,成本降低難以持續(xù)
最新試題
制造和封裝工藝過程中的材料性能是決定材料應(yīng)用的關(guān)鍵,制造性能主要包括()。
題型:多項選擇題
WLCSP技術(shù)最根本的優(yōu)點是IC到PCB之間的電感很大。
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以下不屬于打碼目的的是()。
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為了獲得好的性能,塑封料的電學(xué)性必須得到控制。
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倒裝芯片的連接方式有()。
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常規(guī)芯片封裝生產(chǎn)過程包括粘裝和引線鍵合兩個工序,而倒裝芯片則合二為一。
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下列關(guān)于BGA球柵陣列的優(yōu)缺點,說法正確的是()。
題型:多項選擇題
凸點的制作技術(shù)有()。
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