真空鍍膜操作員章節(jié)練習(2019.11.13)

來源：考試資料網(wǎng)

1.問答題CVD化學氣相沉積法反應步驟可區(qū)分為幾個步驟？

參考答案：（1）不同成份氣相前置反應物由主流氣體進來，以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立...

2 正常情況下，真空室內(nèi)部清洗干凈后，機器的抽氣速度將（）。

3 如果加熱板下方的溫度探頭移位，比正常時要低許多，結(jié)果鏡片溫度將會：（）

4.問答題寫出鍍膜過程應注意哪些參數(shù)變化？

參考答案：鍍膜過程中應注意真空度是否穩(wěn)定、光量走值是否平滑無波動、蒸發(fā)速率穩(wěn)定在設定范圍內(nèi)、電子槍能量是否穩(wěn)定、離子源的各參數(shù)變化...

5.問答題真空蒸鍍可應用在哪些產(chǎn)業(yè)？

參考答案：主要產(chǎn)業(yè)大多應用于裝飾、光學、電性、機械及防蝕方面等，現(xiàn)就比較常見者分述如下：
1.鏡片的抗反射鍍膜（MgO、...

6.判斷題按作業(yè)流程要求在上片之前一定要查看合同評審單，確認是否能上片.

7.判斷題濾片主要材料是人造光學水晶.

8 用分光光度計檢測光譜曲線的中心波長時，鏡片放傾斜了，則測量值與真實值比較，會（）。

9 對鍍膜材料進行預熔的目的是（）。

10.判斷題自動關機時不需要考慮真空度就可以直接關機。