真空鍍膜操作員章節(jié)練習(xí)(2019.11.18)

來(lái)源:考試資料網(wǎng)
參考答案:

⑴減少蒸發(fā)分子與殘余氣體分子的碰撞。
⑵抑制蒸發(fā)分子與殘余氣體分子之間的反應(yīng)。

參考答案:主要產(chǎn)業(yè)大多應(yīng)用于裝飾、光學(xué)、電性、機(jī)械及防蝕方面等,現(xiàn)就比較常見(jiàn)者分述如下:
1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、...
參考答案:(1)濺漿沉積:濺鍍是利用高速的離子撞擊固體靶材,使表面分子濺離并射到基材鍍成一層薄膜,濺射離子的起始動(dòng)能約在100eV...
參考答案:一般CVD均是在高溫的基板下產(chǎn)生沉積反應(yīng),如果以電漿激發(fā)氣體,即所謂的電漿輔助CVD(Plasma enhanced C...